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等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

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视频作者：东莞市八溢自动化设备有限公司

随着制造业的快速发展，如何提高生产效率和产品品质已成为各大企业面临的重要问题。而等离子抛光技术的出现，正是解决这一问题的重要突破。相较于传统的机械抛光，等离子抛光技术具有精度高而且效率快、适用范围广等优点。它可以用于各种材质的表面处理，如不锈钢、铜、镁合金等等。同时，该技术也可以满足制造领域对于表面精度和光洁度的要求。等离子抛光技术是一种基于等离子体原理的表面处理技术。它利用离子放电原理，通过高速电子束的轰击和化学反应，使样件表面微观凸起的位置材料优先去除，从而实现表面的微观整平。在一定条件下，该技术可以达到非常高的抛光精度和光洁度，具有重要的应用价值。效率：一般金属工件，每次抛光时间在3-5分钟，根据工件尺寸，每次抛光的数量不一样，越小的工件，每次可以抛光的数量越多。

是否适合等离子电浆抛光设备，您得先了解等离子电浆抛光设备的优点： 环保，不使用有毒或有害的化学物质，废液可以直接排放或回收利用，不会造成污染。 降低成本，设备操作简单，维护方便，减少人工和材料的消耗。 提率，设备可以在短时间内达到镜面效果，适用于规模化生产。 提升品质，设备可以对复杂和精密的工件进行均匀和高精度的抛光，增强抛光面的抗腐蚀性能和硬度，减少表面粗糙度和摩擦系数。 当然，等离子电浆抛光设备的缺点就是对表面的摩擦作用有限，不能去除冲压印迹和表面橘皮，需要与手工抛光或其他方法结合使用。抛光液需要定期补充或更换，否则会影响抛光效果。抛光深度较浅，一般为1-2微米/分钟，对于一些需要深层处理的工件可能不够理想。

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